据Business Korea报道，SEMES的5名前研究员因将国家核心技术超临界半导体清洗设备制造技术泄露，一审被判入狱。

五名SEMES员工因向外提供核心半导体技术而被判刑

据Business Korea报道，SEMES的5名前研究员因将国家核心技术超临界半导体清洗设备制造技术泄露，一审被判入狱。

7月11日，水原地方法院第15刑事庭因违反《不正当竞争防止法》，判处SEMES前研究员A先生5年有期徒刑，并处罚金5亿韩元。此外，法院还责令A先生于2019年离开SEMES后成立的半导体设备制造公司支付10亿韩元的罚款。

法院还对技术泄密掮客B先生和SEMES关联公司代表C先生等其他4名犯罪嫌疑人判处2年至4年有期徒刑，并责令他们缴纳300万韩元至3亿韩元的罚金。

然而，SEMES下属公司员工D先生因配合调查并认罪，仅被判处有期徒刑3年。

法院表示，“本案泄露和滥用的数据是受害公司多年研发的成果，部分被评价为国家核心技术。”法院补充说：“如果对此类犯罪行为从轻处罚，企业将失去致力于技术开发的动力，外国竞争对手将很容易窃取韩国的技术。”

A先生被指控在2016年离开SEMES并于2019年成立另一家公司后，于2021年6月从C先生那里获取了SEMES开发的超临界半导体清洗设备的图纸，然后通过经纪人B先生将其泄露。

据透露，C先生从A先生处获得了38亿韩元的投资以换取图纸，而经纪人B先生则获得了16亿韩元。

超临界清洗设备使用超临界二氧化碳清洗半导体晶片。这项下一代技术最大限度地减少了对晶圆的损害，并被产业通商资源部指定为国家核心技术。

去年9月，A先生向一家中国私营半导体公司提供了10台超临界清洗设备，随后同意转让该技术。但幸运的是，由于检方开始调查，设备并未实际交付。

A先生还被指控与SEMES前研究员D先生合谋，于2021年5月至7月向其公司内部员工泄露SEMES开发的仅次于日本的全球第二叶式磷酸清洗设备的技术信息。

此前，今年2月，A先生因泄露去年5月SEMES开发的湿式半导体清洗设备技术，一审被判处4年有期徒刑。

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