關于磁流體 - 埃慕迪磁電科技（上海）有限公司

濺射是一種用帶電粒子轟擊靶材，加速的離子轟擊固體表面時，發生表面原子碰撞并發生能量和動量的轉移，使靶材原子從表面逸出并澱積在襯底材料上并形成一層膜。
與真空蒸鍍相比，可以形成緻密性極好的高精度薄膜。
此外，此外，也可以使用蒸鍍中不能夠使用的高熔點材料，因此它們是目前超LSI和半導體領域不可或缺的材料。