關于磁流體 - 埃慕迪磁電科技（上海）有限公司

濺射是一種用帶電粒子轟擊靶材，加速的離子轟擊固體表面時，發生表面原子碰撞并發生能量和動量的轉移，使靶材原子從表面逸出并澱積在襯底材料上并形成一層膜。
與真空蒸鍍相比，可以形成緻密性較好精度的薄膜。
此外，此外，也可以使用蒸鍍中不能夠使用的高熔點材料，因此它們是目前超LSI和半導體領域重要的材料。

PVD（Physical Vapor Deposition的簡稱，即物理氣相沉積）塗層在相對較低的溫度（400至600℃）下形成。 在此過程中，被蒸發的金屬在基闆表面形成塗層。

CVD是Chemical Vapor Deposition的省略，即化學氣相沉積。 （Chemical即化學；Vapor即蒸汽；Deposition即沉積）作爲形成各物質的薄膜的蒸鍍方法之一，通常用于切削工具的表面處理和半導體元件的制造工序。

離子注入是一種将物質離子注入固體的處理方法。由于離子注入後，固體的特性發生了變化，因此被交廣應用于半導體生産、金屬表面處理等各領域。通過離子注入，可以使物質發生化學變化同時破壞物質的結構，使物質結構發生變化。

真空熱處理爐是一種将真空室内的空氣排出并在真空狀态下進行熱處理的設備。優點爲：①在加熱時工件不會氧化；②前道工序表面處理過的工件也可以進行脫泡處理；③以免加熱不均勻；④控制工件的變形等。

真空機械手臂是一種在真空環境下進行工作的機械手臂。

園晶由單晶矽晶棒加工而成，單晶矽晶棒則是由多晶矽原材料加工而成的。
在坩埚中的熔化的矽的液面放入将籽晶，邊旋轉邊向上拉，這樣拉出了原子排列方向相同的單晶矽晶棒。

這是一般使用的稱之爲CZ制造工藝。

磁流體是利用磁場将磁液固定在密封軸的周圍，形成動态密封的旋轉密封元件。

邊高速旋轉邊密封氣體以及霧氣。
磁回路由磁鐵，磁極以及旋轉軸組成。

磁液是一種液體，磁液可以像鐵一樣被磁鐵吸住。

磁液誕生于1960年代初，NASA（美國宇航局）的阿波羅計劃的發明了磁液，用于太空服的可動部分的密封、失重狀态下向火箭發動機輸送液體燃料。