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PVD設備

類别: 應用示例 發布日期:2017年12月26日(星期二)

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物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)是一種通過加熱或等離子能量将薄膜原料蒸發并使其在基闆上形成薄膜的方法。PVD基本方法:①利用熱能使薄膜所需要的材料蒸發,并沉積到的基闆表面;②分子束外延并且将蒸發的粒子變成離子的離子鍍膜;③用輝光放電等離子法進行陶瓷薄膜濺等方法。

Moretec的磁流體也應用于這些PVD設備。

由于Moretec的磁流體壽命長,因此最适合用于PVD設備的工作台以及靶材等的潔淨旋轉機構。

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