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離子注入設備

類别: 應用示例 發布日期:2017年12月26日(星期二)

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離子注入是一種通過将離子化物質注入固體來改變固體性質的一種加工方法。
在半導體制造的前端工藝中,通過使用離子注入,可以向晶片中引入适當的雜質以改善半導體元件特性。

廣泛用于控制半導體材料的電特性的工藝中,一般由産生的離子束的束量和能量,可以分爲中等電流離子注入設備、大電流離子注入設備及高能量離子注入設備。

Moretec的磁性流體被用在離子注入設備中,我們也生産高速旋轉磁流體,歡迎來電或郵件咨詢。

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